硅片边缘抛光与倒角工艺

研磨抛光工业配图

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硅片的“边角”问题,是晶圆制造里低调但关键的一环:边缘有棱角容易碎裂、产生颗粒,污染整个工艺。倒角和边缘抛光,就是给硅片“修边”。

硅片边缘抛光配图

为什么需要倒角

切割后的硅片边缘锋利,存在微裂纹:搬运和工艺中容易碎裂;边缘碎屑会成为颗粒源,污染晶圆表面。

倒角把边缘磨成圆弧,消除应力集中,提高强度并减少颗粒。

倒角工艺

倒角用成型砂轮(金刚石砂轮)沿硅片边缘磨削,形成标准的圆弧轮廓(R形或斜面);倒角后还要化学腐蚀去除磨削损伤层。

倒角尺寸和轮廓有标准,与后续工艺(光刻、薄膜)的卡盘和夹持配合。

边缘抛光

边缘抛光去除倒角后的粗糙表面,减少边缘颗粒和薄膜应力集中;边缘抛光常用小型抛光轮或抛光头,配合细磨料。

边缘质量直接影响晶圆在卡盘上的定位精度和边缘区域的芯片良率。

质量检测

倒角后检查轮廓(光学投影)、表面粗糙度、微裂纹;边缘抛光后检查光泽和缺陷。

硅片边缘工艺是“小部位、大影响”,倒角圆润、边缘光洁,晶圆的整体良率和可靠性才有保障。

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